放電等離子燒結是近幾年發展起來的一種較新的燒結方式，它是利用脈沖能、脈沖壓力產生的瞬間高溫場來實現陶瓷內部晶粒的自發發熱從而使晶?；罨?，由于這種燒結方法升溫、降溫快、保溫時間短，抑制了晶粒的生長、縮短了陶瓷的制備周期、節約了能源。放電等離子燒結實際上是一種新的熱壓燒結方法，所得到的陶瓷樣品晶粒均勻、致密度高、機械性能好，是一種很有價值和前景的燒結方法。
在放電等離子體燒結制備高純氧化鋁陶瓷的過程中，升溫速率對不同階段樣品燒結致密化具有較大影響。在燒結初始階段，較快的升溫速率可以增加燒結體密度，而在燒結后期，較快的升溫速率會導致燒結體密度降低。
兩步燒結法即將樣品加熱到一個特定的溫度（T1）以排除坯體中的亞臨界氣孔，然后降至一個較低的溫度（T2）使坯體達到致密。在兩步燒結法中的低溫燒結階段，由于晶界遷移比晶界擴散所需要的活化能髙，所以這一階段主要以晶界擴散為主。因此，在兩步燒結法中的第二個階段，坯體不斷致密，但晶粒不會生長過快。在兩步燒結法中的低溫燒結階段，坯體完全致密的先決條件是在坯體收縮的過程中，坯體中的氣孔逐漸變成封閉氣孔。兩步法燒結可以在傳統燒結爐上進行，設備成本低廉，具有很強的應用價值。但是兩步法燒結由于需要在第二個溫度點長時間保溫，因此是一種相對比較緩慢的燒結工藝。微波加熱通常以整體加熱、快速加熱為優點，很少有研究將微波加熱與兩步法加熱聯合起來。但是微波加熱能降低燒結溫度、縮短燒結時間的特點，將有利于晶粒的進一步細化，并有效縮短兩步法的生產周期。高真空燒結是一種在高度真空狀態下對陶瓷坯體進行燒結的燒結技術。真空燒結因具有降低升溫速率、抑制晶粒異常長大、減少不規則氣孔率等優勢在制備低氣孔率、小尺寸晶粒陶瓷方面受到許多學者的重視。髙真空燒結不僅可以増強高純氧化鋁陶瓷的一些性能，而且還可以減少晶界處的雜質和燒結體中的氣孔。真空燒結制備高純氧化鋁陶瓷的過程中，氧化鋁晶格中的氧離子容易丟失，形成大量的氧離子空位，鋁離子濃度相對增加，從而導致鋁離子擴散過程加快，有利于燒結的進行。氣相沉積法又分物理氣相法與化學氣相法兩種。物理法中主要有濺射沉積與蒸發沉積法兩種。濺射法是在真空中將電子束轟擊一平整靶材上，將靶材原子激發后涂覆在樣品基板上?；瘜W氣相沉積法是在底材料加熱的同時，引入反應氣體與氣體混合物，高溫下分解或反應生成的產物沉積在底材上，形成致密材料。
指通過氣相或液相與基體相互反應而導致陶瓷材料燒結的方法。最典型的產品是反應燒結碳化硅和反應燒結氮化硅制品。此種燒結方法的優點是工藝簡單，制品可稍加加工或不加工，也可制備形狀復雜的制品。缺點是制品中最終殘余未反應產物，結構不易控制，太厚的制品不易完全反應燒結。許多氧化物陶瓷采用低熔點助劑促進材料燒結。助劑的引入一般不會影響材料的性能而產生良好的效果。作為高溫結構陶瓷使用的添加劑，要注意到晶界玻璃相是造成高溫力學性能下降的主要因素。
